主要內(nèi)容： 本課程圍繞超大規(guī)模集成電路制造中的先進(jìn)光刻技術(shù)，陳 述與之相關(guān)的理論、設(shè)備、材料、測量與控制等。為了適應(yīng)當(dāng)前先進(jìn)光 刻的需求，本課程會重點(diǎn)講述在14nm及以下節(jié)點(diǎn)廣泛使用的計(jì)算光刻、 分辨率增強(qiáng)技術(shù)以及設(shè)計(jì)-工藝聯(lián)合優(yōu)化技術(shù)等。 ? 授課目標(biāo)： 掌握光刻技術(shù)的原理，對計(jì)算光刻技術(shù)進(jìn)行深入研討 ? 授課對象： 微電子學(xué)與固體電子學(xué)專業(yè)，集成電路制造專業(yè)研究生