我們研究了在希格斯暗U（1）D模型（稱為Double Dark Portal模型）中的未來e + e-對撞機上產生新的，亮的，隱藏的狀態的可能性。 向量和標量門戶耦合的同時存在會立即以每個耦合中的前導順序修改標準模型希格斯通隆通道e + e ?→Zh。 此外，每個門戶會導致產生互補信號，可以在直接和間接檢測暗物質實驗中對其進行探測。 在考慮了LEP和LHC的當前限制因素之后，我們通過研究大量的新生產，衰變和輻射返回過程，證明了未來的e + e-希格斯工廠將對這兩種門式耦合具有獨特且領先的敏感性。 除了可能發生奇異的希格斯衰變外，我們還強調了直接的暗矢量和在e + e-機器上產生暗標量的重要性，