光學元件的表面由抗反射涂層（ARC）沉積，以減少光的反射。 在通過等離子體沉積ARC之前，需要對表面進行處理，以通過等離子體進行處理，以提高附著力和表面硬化。 通過比較RF和DC輝光放電處理過的CR-39聚合物薄膜，可以深入了解這些表面過程的機理。 通過顯微鏡技術檢查經過等離子體處理的樣品的表面特性，包括接觸角測量，掃描電子顯微鏡（SEM），原子力顯微鏡（AFM），紅外（IR）光譜和折射率測量。 結果表明，等離子體處理在組成和形態上均改變了聚合物表面。 發現在等離子體處理之后表面潤濕性增強。 已經發現，RF等離子體在CR-39表面改性方面比DC等離子體更有效，因為它向表面注入了更多的氧原子并使